ASML周二表示，英特尔（Intel，INTC）已决定采用ASML的新一代高端光刻设备，生产部分旗舰级Panther Lake（黑豹湖）笔记本处理器。这一举措将帮助英特尔更有效地掌握该设备的生产应用技术。

ASML表示，在自2024年开始进行相关试验后，英特尔现已开始使用ASML新一代高数值孔径（High NA）极紫外（EUV）光刻机，为部分Panther Lake处理器制造芯片电路图案。

长期以来，半导体行业一直在讨论，究竟何时开始部署High NA光刻设备才具有经济效益。随着芯片制造商不断缩小构成芯片的原子级电路线宽，未来High NA设备预计将成为先进制程不可或缺的关键工具。

每台High NA光刻机售价约4亿美元，约为标准EUV光刻机价格的两倍。此外，这种设备导入量产流程也面临较高的技术挑战。

ASML表示，英特尔目前仅将High NA光刻机应用于芯片制造中的部分特定工艺层，此举将有助于英特尔与ASML收集更多生产数据，并进一步优化设备性能。

目前，英特尔采用18A制程工艺生产Panther Lake处理器，并已使用ASML现有的标准EUV光刻机进行制造。光刻（Lithography）是利用光线在晶圆上绘制复杂电路图案、形成芯片电路的关键制造工艺。

英特尔于2024年在美国俄勒冈州希尔斯伯勒（Hillsboro）的研发基地接收了首台High NA光刻机。该基地主要负责开发公司的新一代芯片制造工艺和先进制造技术。

英特尔夜盘现升 2%。