本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）综合未来晶体管设计可能降低芯片制造对先进光刻设备的依赖。最近，英特尔高管发表了一个颇具争议的观点：未来晶体管设计（如GAAFET和CFET）可能降低芯片制造对先进光刻设备（尤其是EUV光刻机）的依赖。这一观点挑战了当前先进芯片制造的核心范式。目前，ASML的极紫外（EUV）光刻机是制造高端芯片（如7nm及以下节点）的关键设备，它负责帮助台积电等公司将极其...
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