金融界2025年6月28日消息，国家知识产权局信息显示，德州仪器公司申请一项名为“具有本征外延层的二极管”的专利，公开号CN120224701A，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，本申请涉及具有本征外延层的二极管。一种电子装置(100)包含：n型衬底(113)，其具有第一n型掺杂剂浓度；本征外延层(114)，其位于所述n型衬底(113)上且具有小于所述第一n型掺杂剂浓度的第二n型掺杂剂浓度；n型外延层(115)，其位于所述本征外延层(114)上且具有大于所述第二n型掺杂剂浓度的第三n型掺杂剂浓度；以及p型外延层(116)，其位于所述n型外延层(115)上。一种方法包含：在具有更高的第一n型掺杂剂浓度的n型衬底(113)上生长具有第二n型掺杂剂浓度的本征外延层(114)；在所述本征外延层(114)上生长具有第三n型掺杂剂浓度的n型外延层(115)，所述第三n型掺杂剂浓度大于所述第二n型掺杂剂浓度；以及在所述n型外延层(115)上生长p型外延层(116)。