Adisyn（ASX：AI1） 子公司2D代表完成了以色列Jan Koum纳米科学和纳米技术中心的Beneq TFS 200原子层沉积（ALD）系统的安装，调试和校准。
该项目遵循该中心的大量基础设施工作，包括对环境控制系统的升级以及支持基于ALD的研究精确要求的高规格电气工作。
在世界大多数半导体制造设施中使用ALD机器，以将非常薄的层（向下至原子厚度）沉积在芯片上。
BENEQ TFS 200模型具有定制的功能，包括用于晶圆表面处理的血浆选项以及潜在的反应性气体引入石墨烯的生长，半自动负载和锁定的锁定，从而使室温样品交换以及减少加热和冷却时间，以及适合芯片尺度处理的反应室。
这些功能对于推进专有的低温石墨烯沉积过程至关重要。
该过程旨在克服半导体互连的现有性能障碍。
ALD系统将与位于特拉维夫大学理由的研究中心与主要的Beneq TFS 200同时运作。
双系统配置将允许2d Generation进行并发测试，并加速跨各种基板，层结构和操作条件的石墨烯膜的验证。
随着这两个系统现在正在运行，该公司表示将开始验证先前的技术结果，同时扩大其对构件的理解，以实现强大而可扩展的过程。
阿迪森主席凯文·克罗夫顿（Kevin Crofton）表示，新ALD系统的调试代表了Adisyn的主要运营飞跃。
他说：“该平台的精确性，灵活性和吞吐量使我们能够在现实世界中的半导体条件下严格测试石墨烯互连解决方案。”
“与特拉维夫大学的第二个ALD系统并联，我们现在拥有强大的双平台设置，以加速开发，验证绩效并为商业应用建立强大的基础。”
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