“它不是光刻机，但重要性仅次于光刻机。”“蚀刻技术将取代光刻成为芯片制造核心。”半导体市场的两则言论，直接将刻蚀设备的热潮推向高点。01光刻机，不再是唯一解上述言论中的后一句，来自英特尔的一位高管。目前，ASML的极紫外（EUV）光刻机是制造高端芯片（如7nm及以下节点）的关键设备。然而，该董事认为，像环绕栅极场效应晶体管（GAAFET）和互补场效应晶体管（CFET）这样的新型设计，将显著增加光刻...
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