如果您希望可以时常见面，欢迎标星 收藏哦~来源：内容来自半导体芯闻综合。新的2纳米工艺仍可利用台积电现有的EUV（极紫外光刻）设备实现晶圆的大规模量产，并保持较高的良率。但随着这家台湾半导体巨头推进到更先进的次2纳米节点——即1.4纳米与1纳米（分别代号A14与A10）——制造工艺将面临更多技术瓶颈。理论上，这些问题可以通过采购ASML的最先进High-NA EUV设备来解决，但最新消息称，台积电...
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