在半导体制造的技术版图中，光刻工艺无疑是最为核心的关键阶段之一。它不仅直接决定了芯片的最小特征尺寸，更对整个制造过程的复杂度与成本结构产生着深远影响。过去十年间，ASML的极紫外（EUV）光刻系统已然成为先进制造进程的标志性象征，其13.5nm波长的光源，有力支撑了台积电、三星、英特尔等巨头在3nm及以下先进制程领域的探索与发展。然而，EUV并非尽善尽美的技术方案，它功能强大但成本高昂，设备价格...
网页链接在半导体制造的技术版图中，光刻工艺无疑是最为核心的关键阶段之一。它不仅直接决定了芯片的最小特征尺寸，更对整个制造过程的复杂度与成本结构产生着深远影响。过去十年间，ASML的极紫外（EUV）光刻系统已然成为先进制造进程的标志性象征，其13.5nm波长的光源，有力支撑了台积电、三星、英特尔等巨头在3nm及以下先进制程领域的探索与发展。然而，EUV并非尽善尽美的技术方案，它功能强大但成本高昂，设备价格...
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