在半导体制造领域，一场静悄悄的技术革命正在台积电和英伟达的实验室中酝酿。反向光刻技术（Inverse Lithography Technology, ILT）——这项曾经仅限于芯片"热点"区域修补的辅助技术，正在AI的赋能下升级为颠覆芯片制造范式的核心利器。随着台积电2纳米制程节点的临近，ILT技术以其独特的"逆向思维"方式，正在解决极紫外光刻（EUV）面临的根本性物理限制，为摩尔定律的延续开辟...
网页链接在半导体制造领域，一场静悄悄的技术革命正在台积电和英伟达的实验室中酝酿。反向光刻技术（Inverse Lithography Technology, ILT）——这项曾经仅限于芯片"热点"区域修补的辅助技术，正在AI的赋能下升级为颠覆芯片制造范式的核心利器。随着台积电2纳米制程节点的临近，ILT技术以其独特的"逆向思维"方式，正在解决极紫外光刻（EUV）面临的根本性物理限制，为摩尔定律的延续开辟...
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