光刻机大厂ASML于11月19日在中国台湾举行媒体会，ASML中国台湾暨东南亚区客户营销主管徐宽成指出，随着半导体制程技术持续不断微缩，High NA EUV光刻机将有助于客户节省时间及成本，目前客户已有英特尔、IBM 及三星等，累积超过35万片晶圆使用High NA EUV光刻机曝光。徐宽成说，当今社会正从芯片无所不在，转变成人工智能（AI）无所不在。AI将驱动半导体先进及成熟制程需求成长，预期...
网页链接光刻机大厂ASML于11月19日在中国台湾举行媒体会，ASML中国台湾暨东南亚区客户营销主管徐宽成指出，随着半导体制程技术持续不断微缩，High NA EUV光刻机将有助于客户节省时间及成本，目前客户已有英特尔、IBM 及三星等，累积超过35万片晶圆使用High NA EUV光刻机曝光。徐宽成说，当今社会正从芯片无所不在，转变成人工智能（AI）无所不在。AI将驱动半导体先进及成熟制程需求成长，预期...
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