一、引言在半导体晶圆制造的薄膜沉积环节，化学气相沉积（CVD）设备是保障器件绝缘性能与结构完整性的核心装备，尤其在逻辑芯片介质层、存储芯片钝化层制造中发挥关键作用。泛林半导体（Lam Research）作为全球半导体设备寡头企业之一，其Vector系列CVD设备凭借高精度介质层沉积、宽工艺窗口适配等核心优势，已成为全球主流晶圆厂的标杆级装备，广泛应用于28nm及以上成熟制程的介质层沉积、钝化层制备...
网页链接一、引言在半导体晶圆制造的薄膜沉积环节，化学气相沉积（CVD）设备是保障器件绝缘性能与结构完整性的核心装备，尤其在逻辑芯片介质层、存储芯片钝化层制造中发挥关键作用。泛林半导体（Lam Research）作为全球半导体设备寡头企业之一，其Vector系列CVD设备凭借高精度介质层沉积、宽工艺窗口适配等核心优势，已成为全球主流晶圆厂的标杆级装备，广泛应用于28nm及以上成熟制程的介质层沉积、钝化层制备...
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