英特尔正在加快重返先进制程领导地位的节奏。最新消息显示，公司已经在美国俄勒冈州的D1X工厂启动了1.4纳米级“14A”工艺的初步试运行。这也是业内首次把 ASML的下一代 High NA EUV（高数值孔径极紫外光刻机）真正导入到商业生产线，被外界视为英特尔冲刺2027年量产目标的重要一步。从技术层面来看，14A相比现有的18A工艺，预计每瓦性能可以提升约15%。这次升级的核心在于两项关键技术：...
网页链接英特尔正在加快重返先进制程领导地位的节奏。最新消息显示，公司已经在美国俄勒冈州的D1X工厂启动了1.4纳米级“14A”工艺的初步试运行。这也是业内首次把 ASML的下一代 High NA EUV（高数值孔径极紫外光刻机）真正导入到商业生产线，被外界视为英特尔冲刺2027年量产目标的重要一步。从技术层面来看，14A相比现有的18A工艺，预计每瓦性能可以提升约15%。这次升级的核心在于两项关键技术：...
网页链接免责声明：投资有风险，本文并非投资建议，以上内容不应被视为任何金融产品的购买或出售要约、建议或邀请，作者或其他用户的任何相关讨论、评论或帖子也不应被视为此类内容。本文仅供一般参考，不考虑您的个人投资目标、财务状况或需求。TTM对信息的准确性和完整性不承担任何责任或保证，投资者应自行研究并在投资前寻求专业建议。