韩国产业通商资源部周二表示,政府将简化极紫外光刻(EUV)设备的进口程序。EUV是半导体制造的关键设备,此举旨在帮助韩国蓬勃发展的芯片产业保持其制造竞争力。
根据韩国内阁批准的《高压气体安全管理法》修订实施细则,EUV设备的进口时间预计从目前的34天缩短至约9天。
韩国产业通商资源部表示,此次修订将有助于三星电子和SK海力士等国内芯片制造商快速获得EUV设备,这对于建立先进的生产设施至关重要。
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责任编辑:于健 SF069
韩国产业通商资源部周二表示,政府将简化极紫外光刻(EUV)设备的进口程序。EUV是半导体制造的关键设备,此举旨在帮助韩国蓬勃发展的芯片产业保持其制造竞争力。
根据韩国内阁批准的《高压气体安全管理法》修订实施细则,EUV设备的进口时间预计从目前的34天缩短至约9天。
韩国产业通商资源部表示,此次修订将有助于三星电子和SK海力士等国内芯片制造商快速获得EUV设备,这对于建立先进的生产设施至关重要。
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