2月23日，阿斯麥的研究人員表示，他們已找到一種方法，可以大幅提升關鍵芯片製造機器的光源功率，從而在2030年前將芯片產量提高多達50%。
「這並非噱頭，也不是那種只能維持極短時間演示的把戲，」ASML的極紫外（EUV）光源首席技術官邁克爾·珀維斯（Michael Purvis）表示。「這是一個能在滿足客戶所有實際需求的情況下，穩定產生1,000瓦功率的系統，」他在公司位於加州聖迭戈附近的設施中補充道。（路透）
2月23日，阿斯麥的研究人員表示，他們已找到一種方法，可以大幅提升關鍵芯片製造機器的光源功率，從而在2030年前將芯片產量提高多達50%。
「這並非噱頭，也不是那種只能維持極短時間演示的把戲，」ASML的極紫外（EUV）光源首席技術官邁克爾·珀維斯（Michael Purvis）表示。「這是一個能在滿足客戶所有實際需求的情況下，穩定產生1,000瓦功率的系統，」他在公司位於加州聖迭戈附近的設施中補充道。（路透）
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