10月9日，阿斯麥盤前上漲3.03%，報1823.98美元/股，成交額716.11萬美元。公司於當日正式公布下一代Hyper NA EUV光刻機藍圖，疊加市場對其即將發布財報的樂觀預期，推動股價走強。

消息面上，ASML與蔡司發表同行評審論文，披露Hyper NA EUV光刻機將數值孔徑提升至0.75以上，可實現5nm單次曝光，較現有High NA EUV設備縮小逾三分之一。與此同時，RBC Capital Markets預計公司三季度業績將超預期，並上調四季度指引，認為生成式AI需求、代工競爭加劇及DRAM光刻強度提升正驅動EUV需求強勁增長，2027年低數值孔徑EUV工具需求有望達90台，2028年超過110台。阿斯麥將於10月14日發布最新財報，市場一致預期營收115.12億歐元，按年增長53.74%。

阿斯麥是全球領先的半導體光刻系統供應商，向亞洲、美國和歐洲的集成電路製造商提供光刻設備及先進工藝支持服務。