普達特科技(00650)在半導體設備領域，繼清洗設備之後，又一項半導體晶圓製造流程中的重要工藝項目CVD（化學氣相沉積）設備業務按計劃開展，初步向該業務投放人民幣1.4億元。按計劃，CVD產品的範圍包括用於製造12吋芯片的多種先進熱CVD設備，預期CVD產品將於2024年進入商業生產階段。這一工藝的設備目前在國內的國產替代率很低，全球CVD設備市場的技術壁壘高，具有廣闊和巨大的市場潛力。薄膜沉積設備佔半導體設備總市場份額的18%，於2021年的全球規模超過170億美元，而CVD設備佔薄膜沉積設備總市場份額的66%，於2021年的全球市場規模超過110億美元。同時該項目在半導體沉積工藝上積累的先進技術能力，會給予太陽能設備研發強大的技術借鑑和提升，對公司太陽能業務保持和突破優勢具有巨大意義。