前沿導讀

據環球網新聞報道稱，由前ASML研究部科學家、中國科學院上海光機所的林楠博士帶隊，繞過了二氧化碳激光器，使用固態激光器技術成功開發出了LPP-EUV光源，這對於中國發展自主光刻機產品又推進了一大步。

回國發展

林楠博士曾經在荷蘭ASML公司擔任研究部研發科學家，據林楠博士在觀察者網舉辦的心智對話節目中透露，林博士當初是經過了11輪的面試，才正式進入了ASML公司擔任技術工程師。

在面試的過程中，ASML會給相關的面試人員出一些技術上面的難題，林楠博士通過與技術團隊的協作，最終解決了公司給出的技術問題，被ASML成功錄用。

可以說，林楠博士在光學技術上面擁有着極具專業性的技術能力與行業知識，並且在光刻機設備的核心光源上面，也有着豐富的技術研發經驗，是一名貨真價實的頂級光學工程師。

在談論到技術創新的時候，林楠博士對此表示，ASML之所以能夠成爲目前國際光刻機產業的統治者，是因爲其公司人員對於技術創新的執着，並且公司講究多領域的技術學科大融合，遇到一個技術難題，多個領域的研發人員湊在一起共同解決，這是其成功的基石。

林楠博士還重點強調了只有研發人員是不夠的，還需要政府在政策上面的扶持，資金上面的支持，以及一些具有前瞻性眼光的領導。

ASML的首席技術官是馬丁·範登布林克，據林博士表示，馬丁是一位願意與研發人員深入探討技術本身的領導。身爲一個大企業的領導，還願意拿出許多時間來與一線的研發人員進行技術上面的深度交流，這是需要我們中國的企業，乃至整個世界的企業都需要學習的榜樣。

2021年，林楠博士從ASML離職後回國，加入到了中國科學院上海光機所擔任研究員。

在談及回國的原因時，林楠博士表示回國是自己私人的原因，ASML有着很不錯的工程師文化，但是由於自己和妻子都是獨生子女，家裏面的父母年齡也比較大了，所以希望離家人近一些，選擇了回國。

在林楠博士與ASML領導就回國情況進行交流的過程中，ASML的領導不願讓他離開，還說可以派林楠博士到中國的ASML分公司工作一段時間。但是林楠博士考慮到長期因素，婉言謝絕了領導的好意。

在談及到ASML的技術設備以及整個的產業鏈體系能否被中國企業進行復制的話題時，林楠博士對此表示，對於跟他一樣的技術人員來說，如果有選擇的情況下，技術人員一般都不會去選擇做同樣的事情，不願意去模仿已經開發完成的技術產品。

對於技術人員來說，模仿曾經已經開發過的技術產品，這是一個浪費時間的做法。單純的複製，這並不是什麼有挑戰性的工作，前人已經把很多事情都做了，你再來重複做同樣的事情是沒有意義的。

如果你想去做，那麼就應該用一種不同的方式，開發一個全新的技術產品。

開發中國技術

林楠博士現在正在做的事情，與他在訪談中所表達的理念一模一樣。

根據林楠博士與其研發團隊在《激光與光電子學進展》第三期雜誌發表的論文內容顯示，研發團隊提出了一種利用空間束縛激光錫等離子體的寬帶極紫外光高效產生方案，該技術方案可以應用於先進半導體的高通量量測。

在開發出全新的技術方案後，林楠團隊又基於固態激光器的工作臺，將技術方案進行了測試。由固態激光器驅動的LPP-EUV光源所提供的功率，可以用於EUV技術的曝光驗證與掩模檢查。

不過由於該技術方案尚未成熟，目前只侷限於實驗室內進行測試，1um的固態激光CE最高可達到3.42%，如果想要達到量產商用的水平，必須要將轉化效率提高到5.5%，距離量產商用還需要一段時間。

林楠博士的技術方案，相當於脫離了ASML原來的二氧化碳激光器，重新用一種全新的光源技術進行EUV工藝的替代。

ASML曾經收購了美國Cymer（西盟）公司，獲得了EUV技術的驅動光源。從2019年開始，ASML憑藉着來自於全球的供應鏈體系，成爲了光刻機產業的霸主。

在美國針對中國芯片產業進行全面壓制之後，又對荷蘭政府施壓，禁止ASML向中國出口EUV光刻機，隨後又禁止ASML向中國出口部分先進的DUV光刻機。

這就又回到了林楠博士在訪談中所表述的內容，前人已經把產品技術開發出來了，你再去模仿人家只能是浪費時間。況且ASML在光刻機產品的迭代速度上面也進入了一個快速時期，等你複製出他們的浸潤式DUV設備，人家都進入下一個技術時代了。

與其當其他企業的跟隨者，還不如直接抱團去開發全新的技術產品。