近期，高盛舉辦了一場關於中國光刻技術的專家電話會議，主要討論圍繞中國光刻技術的發展進展、供應鏈支持情況以及需要克服的技術差距。總體而言，專家認爲，在中國對先進半導體需求日益增長的背景下，半導體行業正在投入資源和預算，以發展光刻技術。雖然技術差距仍然很大，但專家注意到，中國特種工藝設備企業(SPEs)一直在持續努力，並認爲目前關鍵瓶頸在於人才、供應鏈(如鏡頭組件)以及經驗。鑑於關稅相關的不確定性不斷...
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