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全球最大的芯片代工製造商臺積電高管表示，該公司仍在評估何時將ASML先進的高數值孔徑（High-NA）光刻機應用於其未來的工藝節點。

芯片製造商正在權衡，這些價值近4億美元的光刻機在速度和精度方面的優勢，何時才能彌補其幾乎翻倍的價格，而這臺設備本身就是芯片製造廠中最昂貴的設備。

當被問及臺積電是否計劃將該光刻機用於即將推出的A14（1.4nm）以及未來節點的增強版時，臺積電業務發展高級副總裁張曉強（Kevin Zhang）表示，公司尚未找到令人信服的理由。

張曉強表示：“我所說的A14增強版，即使不使用High-NA，其性能也非常顯著。因此，我們的技術團隊正在繼續探索如何利用微縮優勢來延長現有（Low-NA EUV光刻機）的使用壽命。只要他們繼續找到辦法，我們就不必使用它。”

去年，張曉強曾表示，臺積電不會在其A16（1.6nm）節點上使用High-NA EUV光刻機，並補充說他不喜歡它的標價。

英特爾計劃在其未來的製造工藝（即Intel 14A工藝）中使用High-NA EUV光刻機，以重振其代工芯片業務，並更好地與臺積電競爭。不過，英特爾也表示，客戶仍然可以選擇使用更舊、更成熟的技術。

到目前爲止，ASML已向全球三家客戶（英特爾、臺積電和三星）發貨五臺重達180噸的雙層大小的High-NA光刻機。

ASML總裁兼首席執行官傅恪禮（Christophe Fouquet）表示，預計客戶將在2026-2027年期間測試High-NA光刻機的大批量生產準備情況，然後在後期在其最先進的節點上評估該設備。

傅恪禮此前表示，AI仍帶來強勁需求，過去幾個季度中，AI是行業推動行業增長的核心驅動力，“2025年以及明年的部分需求已經穩定下來，基於與客戶的溝通情況，我們預計2025年和2026年都將是增長年。然而，近期公佈的關稅政策加大了宏觀環境的不確定性，目前尚無法量化評估關稅政策的影響。綜合關稅及其他不確定因素，ASML仍預計全年毛利率將在51%-53%之間。”ASML確信，到2030年，預計全年淨銷售額在440億~600億歐元之間，毛利率介於56%~60%。