金融界2025年5月31日消息，國家知識產權局信息顯示，華虹半導體（無錫）有限公司;上海華虹宏力半導體制造有限公司申請一項名爲“最佳曝光焦距差的確定方法”的專利，公開號CN120065641A，申請日期爲2025年03月。專利摘要顯示，本申請公開了一種最佳曝光焦距差的確定方法，包括：獲取多種類型的半導體產品的曝光數據組，該曝光數據組包括其對應類型產品的最佳曝光焦距差和圖形間距，最佳曝光焦距差是在...
網頁鏈接免責聲明：投資有風險，本文並非投資建議，以上內容不應被視為任何金融產品的購買或出售要約、建議或邀請，作者或其他用戶的任何相關討論、評論或帖子也不應被視為此類內容。本文僅供一般參考，不考慮您的個人投資目標、財務狀況或需求。TTM對信息的準確性和完整性不承擔任何責任或保證，投資者應自行研究並在投資前尋求專業建議。