金融界2025年5月31日消息，國家知識產權局信息顯示，圓益IPS股份有限公司申請一項名爲“基板處理裝置及基板處理裝置的維護方法”的專利，公開號CN120072608A，申請日期爲2023年12月。

專利摘要顯示，本發明涉及基板處理裝置及基板處理裝置的維護方法，更詳細地說，涉及利用等離子體執行基板處理的基板處理裝置及基板處理裝置的維護方法。本發明公開一種基板處理裝置，包括：工藝腔室(100)，上部形成開口部；背板(200)，結合到所述開口部，形成從外部引入氣體的引入口(201)；蓋板(300)，隔開設置於所述背板(200)上側而覆蓋所述背板(200)上部，形成貫通口(301)；支撐部(600)，設置在所述背板(200)，貫通所述蓋板(300)的所述貫通口(301)，將支撐對象物從所述蓋板(300)向上側隔開支撐。