本文由半導體產業縱橫（ID：ICVIEWS）綜合即使是1.4nm，台積電短期內也不會用高NA EUV光刻機。台積電聯席副首席運營官張凱文最近重申，公司對採用高數值孔徑EUV光刻設備持謹慎態度，並強調台積電「並不急於」將這項先進技術投入量產。他的言論再次引發了業界對ASML耗資數十億美元的下一代光刻平台的猜測。據ASML稱，組裝一套高數值孔徑EUV光刻系統是一項全球性的物流壯舉。該系統的四個主要模塊...
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