本文由半導體產業縱橫（ID：ICVIEWS）綜合未來晶體管設計可能降低芯片製造對先進光刻設備的依賴。最近，英特爾高管發表了一個頗具爭議的觀點：未來晶體管設計（如GAAFET和CFET）可能降低芯片製造對先進光刻設備（尤其是EUV光刻機）的依賴。這一觀點挑戰了當前先進芯片製造的核心範式。目前，ASML的極紫外（EUV）光刻機是製造高端芯片（如7nm及以下節點）的關鍵設備，它負責幫助台積電等公司將極其...
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