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IT之家 6 月 27 日消息，ASML 技術高級副總裁 Jos Benschop 在接受《日經亞洲》採訪時表示，該企業已同光學組件獨家合作伙伴蔡司一道啓動了5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機開發。

作爲參考，目前的 TWINSCAN EXE:5000 光刻系統採用 High NA (0.55NA) 光學系統，分辨率爲 8nm。更高的分辨率意味着先進製程企業可減少曝光次數、提升光刻圖案質量。

Jos Benschop 提到，ASML 尚未設定 Hyper NA 光刻機推出的目標日期，不過項目開發目標是將 NA（IT之家注：數值孔徑）進一步提升到 0.7 乃至更高；8nm 的分辨率意味着 Hyper NA 系統能滿足 2035 年乃至更後階段的產業需求。

對於近來才啓動部署的 High NA 圖案化設備，這位 ASML 高管稱這些機臺的廣泛使用要晚一些，這是因爲行業需要測試、驗證並建立相應的生態系統；0.55NA 光刻機預計可滿足本十年內乃至到三十年代初的行業需求。

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