金融界2025年6月28日消息，國家知識產權局信息顯示，ASML荷蘭有限公司申請一項名為「具有低串擾的多帶電粒子射束設備」的專利，公開號CN120221358A，申請日期為2020年05月。

專利摘要顯示，本公開涉及一種具有低串擾的多帶電粒子射束設備。公開了通過減少多射束設備中的二次帶電粒子檢測器的檢測元件之間的串擾，來增強成像分辨率的系統和方法。多射束設備包括用於將來自樣品的多個二次帶電粒子射束投射到帶電粒子檢測器(140)上的電光系統。該電光系統包括第一預限制孔徑板(155P)和射束限制孔徑陣列(155)，第一預限制孔徑板(155P)包括被配置為阻擋多個二次帶電粒子射束的外圍帶電粒子的第一孔徑；射束限制孔徑陣列(155)包括被配置為修整多個二次帶電粒子射束的第二孔徑。帶電粒子檢測器可以包括多個檢測元件(140_1、140_2、140_3)，其中多個檢測元件中的一個檢測元件與多個二次帶電粒子射束中的對應修整後的射束相關聯。