金融界2025年7月12日消息，國家知識產權局信息顯示，ASML荷蘭有限公司申請一項名為「用於夾持翹曲襯底的真空台和方法」的專利，公開號CN120303617A，申請日期為2023年11月。

專利摘要顯示，本公開提供了一種真空台，包括：台，具有用於支撐襯底的頂表面，頂表面設定有至少兩個壓力區，每個壓力區連接到相應的真空連接器以提供降低的壓力，壓力區中的至少一個設定有跨頂表面在徑向方向上延伸的槽。相應的壓力區可以包括連接到相應的真空連接器並沿所述頂表面延伸的相應的槽，每個壓力區的槽至少沿頂表面沿圓形方向延伸。徑向槽可以從相應的圓形槽像手指一樣延伸。一個壓力區的徑向槽在另一壓力區的徑向槽之間延伸。