金融界2025年7月11日消息，國家知識產權局信息顯示，DRS網絡和成像系統公司申請一項名為「用於晶圓級真空封裝非致冷焦平面陣列的增強面積的吸氣劑架構」的專利，公開號CN120303542A，申請日期為2023年12月。

專利摘要顯示，本發明公開了利用用於晶圓級真空封裝非致冷焦平面陣列(FPA)組件的增強面積的吸氣劑架構的方法和系統。該FPA組件包括器件晶粒以及鍵合至器件晶粒的窗口晶粒，器件晶粒具有第一器件表面、設定在第一器件表面上的紅外探測器陣列以及設定在第一器件表面上的紅外參考像素。窗口晶粒包括凹部，並且包括覆蓋紅外探測器陣列的第一晶粒表面、覆蓋紅外參考像素的第二晶粒表面、以及接合第一晶粒表面和第二晶粒表面的晶粒壁表面。晶粒壁表面形成凹部的周界，並且吸氣劑材料設定在晶粒壁表面或第一晶粒表面中的至少一者上。