金融界2025年7月12日消息，國家知識產權局信息顯示，ASML荷蘭有限公司申請一項名為「超連續譜輻射源」的專利，公開號CN120303615A，申請日期為2023年11月。

專利摘要顯示，披露了一種用於生成輸出寬帶輻射的寬帶輻射源，包括串聯佈置的多個超連續譜生成級，每個所述超連續譜生成級包括相應的非線性生成元件。所述多個超連續譜生成級包括至少第一超連續譜生成級和第二超連續譜生成級，在所述串聯中，所述第二超連續譜生成級在所述第一超連續譜生成級之後。被包括在所述第一超連續譜生成級內的第一非線性生成元件的損壞容許度大於被包括在所述第二超連續譜生成級內的至少第二非線性生成元件的損壞容許度。