Adisyn（ASX：AI1） 子公司2D代表完成了以色列Jan Koum納米科學和納米技術中心的Beneq TFS 200原子層沉積（ALD）系統的安裝，調試和校準。
該項目遵循該中心的大量基礎設施工作，包括對環境控制系統的升級以及支持基於ALD的研究精確要求的高規格電氣工作。
在世界大多數半導體制造設施中使用ALD機器，以將非常薄的層（向下至原子厚度）沉積在芯片上。
BENEQ TFS 200模型具有定製的功能，包括用於晶圓表面處理的血漿選項以及潛在的反應性氣體引入石墨烯的生長，半自動負載和鎖定的鎖定，從而使室溫樣品交換以及減少加熱和冷卻時間，以及適合芯片尺度處理的反應室。
這些功能對於推進專有的低溫石墨烯沉積過程至關重要。
該過程旨在克服半導體互連的現有性能障礙。
ALD系統將與位於特拉維夫大學理由的研究中心與主要的Beneq TFS 200同時運作。
雙系統配置將允許2d Generation進行併發測試，並加速跨各種基板，層結構和操作條件的石墨烯膜的驗證。
隨着這兩個系統現在正在運行，該公司表示將開始驗證先前的技術結果，同時擴大其對構件的理解，以實現強大而可擴展的過程。
阿迪森主席凱文·克羅夫頓（Kevin Crofton）表示，新ALD系統的調試代表了Adisyn的主要運營飛躍。
他說：“該平臺的精確性，靈活性和吞吐量使我們能夠在現實世界中的半導體條件下嚴格測試石墨烯互連解決方案。”
“與特拉維夫大學的第二個ALD系統並聯，我們現在擁有強大的雙平臺設置，以加速開發，驗證績效併爲商業應用建立強大的基礎。”
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