金融界2025年7月19日消息，國家知識產權局信息顯示，中芯國際集成電路製造（上海）有限公司申請一項名爲“測試結構及其形成方法、測試方法”的專利，公開號CN120341214A，申請日期爲2024年01月。專利摘要顯示，一種測試結構及其形成方法、測試方法，結構包括：基底，包括多個測試單元；相隔離的第一互連線和第二互連線，位於測試單元的基底上；第一引線，位於測試單元中第一互連線上方、並與第一互連線電...
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