芯片製造流程極爲複雜，光刻工藝則是其中最關鍵的一環，光刻確定了芯片的關鍵尺寸，在整個芯片製造過程中約佔據整體製造成本的35%。可以說光刻機的技術水平會直接影響半導體制造工藝的精度和效率，是製造出足夠微小、精確、高效率的集成電路的關鍵因素。當前全球光刻機市場呈現出明顯的寡頭壟斷格局，荷蘭的阿斯麥（ASML）處於絕對領先地位，日本的尼康（Nikon）和佳能（Canon）緊隨其後。近期，ASML發佈財報...
網頁鏈接免責聲明：投資有風險，本文並非投資建議，以上內容不應被視為任何金融產品的購買或出售要約、建議或邀請，作者或其他用戶的任何相關討論、評論或帖子也不應被視為此類內容。本文僅供一般參考，不考慮您的個人投資目標、財務狀況或需求。TTM對信息的準確性和完整性不承擔任何責任或保證，投資者應自行研究並在投資前尋求專業建議。