“它不是光刻機，但重要性僅次於光刻機。”“蝕刻技術將取代光刻成爲芯片製造核心。”半導體市場的兩則言論，直接將刻蝕設備的熱潮推向高點。01光刻機，不再是唯一解上述言論中的後一句，來自英特爾的一位高管。目前，ASML的極紫外（EUV）光刻機是製造高端芯片（如7nm及以下節點）的關鍵設備。然而，該董事認爲，像環繞柵極場效應晶體管（GAAFET）和互補場效應晶體管（CFET）這樣的新型設計，將顯著增加光刻...
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