近日，關於臺積電2納米制程技術遭竊的傳聞引發廣泛關注，其中一家涉事企業爲日本知名企業TEL（東京電子）。

據悉，在該事件曝光前，日本方面已派出高層代表前往臺積電表達歉意，但遭到拒絕。臺積電方面態度堅決，已正式提告並啓動法律程序，顯示出對知識產權保護的高度重視。

目前案件尚在審理中，最終結果仍未可知。但從以往類似案例來看，涉及泄密的相關人員通常會面臨嚴厲的法律後果，甚至在服刑結束後也難以在業內重新就業。

臺積電的法務團隊在業內素以強勢著稱，不僅對技術泄密行爲追責到底，即便員工離職後若存在技術相關爭議，也可能面臨法律追責。

一個典型例子就是曾擔任臺積電研發要職的梁孟松。他是臺積電研發團隊中的關鍵人物之一，在推動0.13微米工藝技術突破中發揮了重要作用。從這一代工藝開始，臺積電逐步放棄與IBM等國際企業的合作研發模式，轉向自主技術創新，爲日後在全球晶圓代工領域的領先地位奠定了堅實基礎。

不過，梁孟松於2009年離開臺積電，具體原因衆說紛紜，有傳聞稱其因未能獲得應有的重視及發展空間，最終選擇出走。他在2006年先赴韓國成均館大學任教，兩年後競業協議期滿，正式加入三星。

在三星期間，他主導了14納米工藝的研發，該工藝被視爲三星半導體制造的里程碑。當時蘋果A9芯片由三星與另一廠商共同代工，正是這一代工藝的代表作。

此舉引發臺積電強烈不滿，隨後對梁孟松提起法律訴訟，雙方纏訟四年，最終迫使梁孟松離開三星。

此後，他來到中國大陸，加入中芯國際，參與技術體系建設與研發推進。

事實上，中芯國際自成立以來，在技術發展過程中曾多次與臺積電產生糾紛。兩家公司在知識產權等方面的較量由來已久，甚至其創始人的關係也頗具複雜背景，曾引發多輪法律交鋒，一度對中芯國際的經營造成嚴重影響。相關事件背景複雜，非三言兩語所能道盡。