韓國第二大存儲芯片製造商SK海力士公司週三表示，已在韓國一條內存生產線上採用先進的生產設備，以加快下一代芯片的開發。

　　該公司表示，已經在位於首爾南部利川市的主要生產基地M16芯片製造工廠安裝了業界首個高數值孔徑極紫外線（High NA EUV）光刻系統。

　　高NA EUV是指一種先進的光刻系統，它通過應用更大的數值孔徑來提供更好的分辨率，該孔徑測量光學系統收集光的能力。

　　該設備由總部位於荷蘭的阿斯麥公司生產，該公司表示，該設備的數值孔徑提高了40%，精度提高了1.7倍。

　　SK海力士表示，該系統將加速下一代存儲器產品的開發。

　　“我們預計，關鍵基礎設施的增加將把我們一直追求的技術願景變爲現實，”SK海力士研發負責人Cha Seon-yong說。

　　他表示：“我們的目標是，利用快速發展的人工智能（AI）和下一代計算市場所需的尖端技術，加強在人工智能（AI）內存領域的領先地位。”

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責任編輯：於健 SF069