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9月10日消息，抵達中國臺灣，密會臺積電董事長魏哲家，疑爲2nm泄密案“向臺積電賠罪”！

據報道，2025年SEMICON Taiwan國際半導體展今日於臺北南港展覽館一、二館正式開幕，吸引全球產業目光。不過，外界關注的焦點之一，落在東京威力科創（TEL）社長兼執行長河合利樹的缺席。

據瞭解，河合昨日下午缺席展會活動，轉而前往新竹與臺積電董事長暨總裁魏哲家進行閉門會晤，爲先前爆發的2nm技術泄密事件親自道歉，並提出後續善後對策。

據報導，TEL是全球半導體設備的主要供貨商，臺灣地區爲其關鍵市場，臺積電更是其重要客戶。

知情人士透露，河合利樹此行主要目的是向臺積電表達歉意，針對TEL前陳姓工程師涉嫌泄露臺積電2nm技術機密一事，親自向魏哲家致歉，並提出公司如何善後的初步構想。由於雙方爲閉門會談，具體內容尚不對外公開，目前仍待TEL方面進一步說明。

據之前報道，臺積電 2nm 芯片技術外泄事件涉案 3 人被檢方起訴，分別被要求判處14年、9年和7年徒刑。

涉案的主要嫌疑人陳姓男子曾任臺積電工程師，熟悉公司嚴格的保密制度與供應商保密協議。離職後，他加入日本半導體設備龍頭 TEL 公司，並利用舊同事關係，多次索取 2 納米蝕刻站相關機密文件和數據，將其拍攝、複製，用於幫助 TEL 公司改進設備性能。