臺積電開拓新業務

半導體行業觀察
09/11

來源:內容來自半導體行業觀察綜合。臺積電正在將其位於新竹科學園區的已停產的舊8英寸晶圓廠3號晶圓廠重新利用,用於生產極紫外光防護薄膜(extreme ultraviolet pellicles),並將該生產流程移至內部。極紫外光防護薄膜是一種高度透明的薄膜,覆蓋在光掩模上方,用於防止在極紫外光曝光期間顆粒接觸光掩模。其設計旨在承受強烈的極紫外輻射和熱應力,同時最大限度地減少光吸收和波前畸變。生產...

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