源自：牲產隊

美國造不出的DUV光刻機，中國造出來了。

上海初創公司“宇量升”，實現了國產首臺28納米DUV光刻機的突破。中芯國際已經與宇量升達成合作，成功完成了設備測試。別看它明面上是28納米技術，實際通過多重曝光工藝，能生產7納米，甚至5納米芯片。

宇量升公司成立才三年，怎麼就完成了中國芯片產業史詩級的突破？國產DUV光刻機一旦正式投產，對中美意味着什麼？

宇量升公司成立於2022年，雖然是初創公司，背後來頭可真不小。宇量升背後有兩大股東，各持股50%。一是上海科技創業投資集團全資子公司創科微，意味着上海國資大力扶持，糧草管夠。二是深圳的芯片設備企業新凱來。這家公司，是個啥來頭？可以這麼說，新凱來整合了國內頂級零部件供應商，讓大半個芯片設備產業鏈，來託舉宇量升。

比如長春光機所控股的奧普光電，提供光刻機曝光系統。光學鏡頭頂級供應商永新光學，提供DUV光刻機的鏡頭模組體系。福晶科技，全球非線性光學晶體市佔率80%的龍頭企業，跟宇量升一起開發了固體激光驅動光源。波長光電，爲宇量升提供關鍵零部件的光源鏡片。背後站着一堆頂級大廠，宇量升研發出的國產DUV光刻機，含金量也就不言而喻了。

國產DUV的突破，對中美至少有着三大意義：

一是，美國對華芯片封鎖戰略，註定失敗。

高端芯片一直是美國對華施壓的關鍵籌碼。像阿斯麥的先進光刻機，英偉達的高端AI芯片，全都被禁止對華出售。

很多人可能以爲，美國鎖死了光刻機與高端芯片，中國科技發展就很難突破了。實際不是那麼回事，國產芯片需求大頭，是28納米以下的成熟製程。中國不僅能做到自給自足，還能大量出口，2024年出口金額突破萬億元大關。

現在國產DUV突破，芯片製程推進到5納米，進一步“芯片自由”了。像手機、車機、AI乃至軍工芯片，九成以上的芯片需求，都能實現國產化替代。美國所謂的封鎖戰略，很難再成爲施壓中國的籌碼了。

二是，我們從技術層面，徹底超越美國了。

很多人可能以爲，美國的光刻機技術一定非常強。其實不是，美國壓根就沒法獨立造出光刻機來。全世界能造出DUV光刻機的，只有荷蘭的阿斯麥以及日本的佳能和尼康。中國現在也實現了DUV突破，含金量甚至比荷蘭、日本更高。

因爲他們製造光刻機的零部件，大多不是自己國產，而是西方產業鏈協作的結果。中國就不一樣了，現在大量關鍵零部件已經實現了國產化。未來爲了防止西方卡脖子，全國產化光刻機的目標，也必然會實現。

三是，中國突破EUV光刻機，應該也不遠了。

其實EUV光刻機的不少關鍵技術，已經被我們掌握了。像哈工大團隊，用全新的技術路線，研發出了13.5納米極紫外光源技術，打破了西方的封鎖壟斷。長春光機所，攻克了高精度弧形反射鏡系統，EUV多層膜等多個關鍵技術領域。另外像上海微電子，中科院光電所，深圳新凱來等大量科研團隊，都在攻關EUV光刻機。

要不了幾年，我們會像現在聽到國產DUV突破一樣，突然見證國產EUV光刻機落地的歷史時刻。

來源：牲產隊