快科技9月25日消息，近日，台積電公布了其下一代A14（1.4nm）工藝的最新進展，稱其進展順利，良率表現優於預期。除了良率，A14工藝在性能和能效方面相較於N2工藝有着顯著的提升，具體來說，A14性能比N2快15%，功耗降低了30%。台積電計劃在A14工藝中採用第二代GAAFET納米片晶體管和全新的NanoFlex Pro標準單元架構，這些技術的應用將使芯片密度比N2工藝提升高達20%。這意味着...
網頁鏈接快科技9月25日消息，近日，台積電公布了其下一代A14（1.4nm）工藝的最新進展，稱其進展順利，良率表現優於預期。除了良率，A14工藝在性能和能效方面相較於N2工藝有着顯著的提升，具體來說，A14性能比N2快15%，功耗降低了30%。台積電計劃在A14工藝中採用第二代GAAFET納米片晶體管和全新的NanoFlex Pro標準單元架構，這些技術的應用將使芯片密度比N2工藝提升高達20%。這意味着...
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