在當前的芯片製造中，光刻機始終是技術制高點，因為幾乎所有的大規模芯片量產，都是基於光刻工藝來的，而光刻工藝就需要光刻機。

而進入7nm以下時，就必須使用EUV光刻機，全球僅ASML一家能夠製造它，所以大家認為，ASML纔是整個EUV光刻機體系中的技術老大。

但事實上，ASML還真不是技術老大，ASML真正最厲害之處，並不是技術有多牛，而是整合，將全球最厲害的技術，整合到一起，最終組裝出了EUV光刻機。

在EUV技術體系中，美國光源佔到27%，荷蘭腔體和英國真空佔到32%，德國光學系統佔到14%，日本材料佔到27%。

具體從EUV光刻機來看，一臺EUV光刻機，由幾十萬個零件組成，但總體來看，有三項重要核心技術，一是EUV光源的製造（光源系統）、二是EUV光源製造出來後的收集和控制（物鏡系統），三是後續精密儀器的製造技術（精密工作臺）。

這其中每一項的難度都非常大，且這三項，其實都不是ASML的技術，ASML都是通過整合別人的而來。

其中有一項特別特別關鍵，全球只有一家能夠提供，那就是第二項的物鏡系統，目前全球僅蔡司（Zeiss）擁有浸潤式光學系統、EUV光學系統能力，除蔡司外，全球沒有任何其它的替代廠商。

而在整個EUV體系中，也只有這個蔡司的物鏡系統全球唯一，其它的多多少少還有可以想辦法的替代廠商，但物鏡系統全球唯一。

在ASML目前的EUV光刻機中，光學物鏡系統高約1.5m，重3.5噸，由3.5萬個獨立部件組成；其中照明系統共1.5萬個組成部分，重1.5噸；投影物鏡共2萬個組成部分，重2噸。

全球除了蔡司之外，沒有任何一家廠商能夠提供。蔡司也表示稱，他們已累積了超過1,500 項與EUV 相關的技術專利。

所以沒有任何企業可以繞過蔡司自行製造EUV 的光學物鏡系統，目前全球80%的芯片製造，都離不開蔡司提供的光學組件。

所以說，總體來看，蔡司其實才是整個EUV體系中的技術王者，它纔是大哥，ASML只是將蔡司的技術產品拿過來了，並且綁定在自己的戰車上，僅此而言，當然這也是ASML的能力。