黃仁勳站臺,臺積電美工廠造出首片英偉達Blackwell晶圓

全球半導體觀察
10/20

當地時間10月17日,英偉達創始人兼首席執行官黃仁勳到訪臺積電位於美國亞利桑那州鳳凰城的半導體制造工廠,慶祝首片NVIDIA Blackwell晶圓在美國本土下線,這標誌着英偉達Blackwell已實現量產。

圖片來源:英偉達

在慶典現場,黃仁勳與臺積電運營副總裁王永利共同在晶圓上簽名,意味着英偉達最新一代AI核心芯片正式在美國本土進入量產階段。

Blackwell是英偉達迄今為止最先進的AI芯片與超級計算平臺,採用臺積電4NP工藝製造,由Blackwell GPU、Grace CPU、NVLink交換機等構成,擁有2080億個晶體管,同時配備192GB HBM3E顯存並支持第五代NVLink技術(1.8TB/s雙向帶寬)。

據介紹,晶圓(半導體的基礎材料)將經過分層、圖案化、蝕刻和切割等複雜工藝,最終成型為基於NVIDIA Blackwell架構提供的超高性能、可加速AI運算的芯片。

英偉達表示,未來,臺積電亞利桑那工廠將生產包括2納米、3納米和4納米芯片以及A16芯片在內的先進技術,這些芯片對於人工智能、電信和高性能計算等應用至關重要。

#臺積電 #英偉達 #晶圓代工 #Blackwell架構

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