如果您希望可以時常見面，歡迎標星 收藏哦~來源：內容來自半導體芯聞綜合。新的2納米工藝仍可利用台積電現有的EUV（極紫外光刻）設備實現晶圓的大規模量產，並保持較高的良率。但隨着這家台灣半導體巨頭推進到更先進的次2納米節點——即1.4納米與1納米（分別代號A14與A10）——製造工藝將面臨更多技術瓶頸。理論上，這些問題可以通過採購ASML的最先進High-NA EUV設備來解決，但最新消息稱，台積電...
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