10月22日消息，光罩大廠Tekscend Photomask（科盛德光罩）近日於日本東京證交所掛牌上市，募資規模達1,566億元日元。而隨着Tekscend Photomask的上市，象徵着半導體產業前進至埃米制程，扮演最前端製程的光罩重要性大大增加。供應鏈指出，光罩好比芯片製作的底片，光罩受污染會導致無法提升最終良率。因此，台積電自研光罩保護膜（Pellicle），主要因為2nm以下光罩...
網頁鏈接10月22日消息，光罩大廠Tekscend Photomask（科盛德光罩）近日於日本東京證交所掛牌上市，募資規模達1,566億元日元。而隨着Tekscend Photomask的上市，象徵着半導體產業前進至埃米制程，扮演最前端製程的光罩重要性大大增加。供應鏈指出，光罩好比芯片製作的底片，光罩受污染會導致無法提升最終良率。因此，台積電自研光罩保護膜（Pellicle），主要因為2nm以下光罩...
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