10月23日消息，據臺媒報道，隨着技術節點進一步微縮 1.4 納米（A14）及 1 納米（A10），臺積電面臨新的製造瓶頸，該公司決定放棄採購單價高達 4 億美元的 ASML 高數值孔徑（High-NA）EUV 光刻機。
臺積電正掀起一場 「技術豪賭」！面對 1.4 納米（A14）、1 納米（A10）製程的終極瓶頸，它直接拒絕了荷蘭 ASML 單價 4 億美元的 High-NA EUV 光刻機 —— 這可是行業公認的 「破局神器」，說不買就不買，直接顛覆行業預期！
不砸錢買 「神器」，偏走 「低成本野路子」
按常理，要啃 1 納米、2 納米的硬骨頭，採購 ASML 的 High-NA EUV 光刻機是最直接的路。但臺積電偏要反着來，把寶押在了 「光掩模護膜」 技術上，核心原因就一個：成本太炸了！
4 億美元一臺的光刻機，對誰都是天價。臺積電算得明明白白：這設備現在能帶來的價值，根本配不上它的價格，純屬 「花錢不討好」。
光掩模護膜是啥？就是在現有 EUV 光刻機上 「加 buff」—— 給光掩模套層保護罩，擋住灰塵污染，靠這套操作硬衝更精密的製程，直接省下幾十億採購費。
省錢的代價：生產要 「死磕」，良率懸了
但 「野路子」 沒那麼好走，臺積電這步棋也踩進了新坑。用老設備衝 1 納米，技術難度直接拉滿：
曝光次數要翻倍。想達到精度，得反覆曝光好幾次，生產節奏直接變慢，效率肉眼可見地降。
良率成了 「定時炸彈」。光掩模用得越頻繁，出問題的概率就越高，芯片報廢風險直線上升。
現在的臺積電，等於抱着 「試錯」 硬扛 —— 得靠無數次調試優化可靠性，這根本不是簡單升級，而是一場賭上未來的技術攻堅戰！
另一個隱情：ASML 產能 「卡脖子」
除了成本，ASML 的產能也把臺積電逼到了牆角。要知道，ASML 每年頂多造 5-6 臺 High-NA EUV 光刻機，數量少得可憐。
而臺積電是什麼量級？單靠標準 EUV 光刻機，它就得買 30 臺才能餵飽蘋果這些大客戶的需求。要是把錢砸在沒幾臺的 「稀缺貨」 上，長期產能根本沒法保證，這買賣怎麼算都不划算。