在全球半導體產業爭奪技術制高點的關鍵時刻，德國高科技企業TRUMPF與荷蘭光刻巨頭ASML宣佈達成獨家戰略合作，成功開發出新一代EUV（極紫外）高能激光器。這一突破性技術已於2025年10月完成首次測試，計劃於2026年投入量產，將為ASML下一代高數值孔徑EUV光刻系統提供核心光源，推動全球芯片製造進入2納米及以下工藝時代。技術革命：重新定義EUV光源的性能極限這款被譽為"芯片製造之光"的新一代...
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