神祕公司宣佈光刻新技術,挑戰ASML與臺積電

電子工程專輯
11/02

近日,美國半導體初創企業Substrate宣佈成功開發出一種新型芯片製造設備,該技術聲稱可媲美荷蘭阿斯麥(ASML)最先進的極紫外光(EUV)光刻系統。與此同時,這家公司還放出豪言,計劃在美國建立代工廠,直接與臺積電競爭AI芯片生產。Substrate此次一舉獲得1億美元種子輪孖展,估值已超過10億美元,成為新晉獨角獸企業。其投資者陣容強大,包括彼得·蒂爾的Founders Fund、...

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