本文由半導體產業縱橫（ID：ICVIEWS）編譯自tomshardware

對美光科技來說，愛達荷州比紐約州更有發展前景。

美光科技近期調整了其在美國的芯片製造擴張計劃，決定將紐約州芯片製造廠的建設推遲約五年，同時加快愛達荷州第二座工廠的建設進度，並對已獲得的《芯片法案》聯邦資金進行重新分配。這一戰略調整顯示出美光在不同地區項目上的優先級變化。

據報道，美光公司披露其位於紐約州克萊附近的晶圓廠項目將大幅延期，預計要到2033年底才能投產。這一消息來源於美光近期公佈的文件。若消息屬實，將對紐約州計劃中的半導體生產集羣造成重大影響，該集羣原計劃於2025年投產。

根據美光公司6月份正式發佈的《環境影響報告書》草案，首座晶圓廠的建設階段將於2026年底啓動，建設週期將持續到2028年下半年或2029年初。按照正常晶圓廠建設需要12到24個月的週期計算，預計首座晶圓廠將於2030年左右開始DRAM生產，這比最初預期晚了五年。

美光在6月份提交的環境影響報告書中明確表示："美光將於2025年第四季度開始為擬建項目進行初步場地準備工作，預計前兩個DRAM製造工廠將分別於2029年和2030年投入運營，其餘工廠預計將於2035年和2041年投入運營。"

來源：美光

然而，來自雪城的最新消息表明，美光在紐約的項目可能面臨又一次重大延誤。據獲得的最新環境文件顯示，首座晶圓廠的建設週期將從三年延長至約四年，這意味着1號晶圓廠的竣工時間將從2028年下半年推遲至2030年底。這一變化將自然延緩整個項目的進度，包括人員招聘和運營計劃。

據悉，新方案已獲得奧農達加縣工業發展局的批准，這意味着場地準備工作可以繼續進行，同時監管機構將審查下一階段的審批和稅收優惠政策。美光公司並未具體說明修改時間表的原因，但承認對其與美國商務部簽署的61億美元《芯片技術創新法案》孖展協議進行了修訂。

此次修訂將美光在紐約的投產時間延長約兩年，原因是該公司將提前啓動其位於愛達荷州的ID2工廠。愛達荷州的兩座工廠——一座已建成，一座正在規劃中——將先於克萊縣的工廠完工，這表明美光對項目優先級進行了戰略性調整。

作為此次調整的一部分，美光公司將其約12億美元的聯邦撥款從紐約州轉移到了愛達荷州，導致克萊縣獲得的撥款份額從46億美元減少到34億美元。據報道，該公司表示此次調整符合聯邦協議中不斷變化的項目要求。

包括奧農達加縣行政長官瑞安·麥克馬洪在內的當地政府官員將此次延誤歸因於普遍存在的勞動力短缺以及美國半導體項目普遍存在的建設週期延長問題。這些挑戰在美國重建半導體製造業的過程中並不罕見。

紐約項目的調整可能不會影響美光在美國生產40%DRAM的最終目標，因為該公司通常會優先推進各個項目，而不是完全推遲新建晶圓廠。與此同時，優先建設ID2晶圓廠將對美光在美國的HBM產量產生積極影響。

美光還計劃在愛達荷州建設一座用於HBM和其他需要堆疊和先進封裝技術的存儲器的先進封裝工廠。這一佈局顯示出公司對市場需求的前瞻性考量，特別是在人工智能和數據密集型技術快速發展的當下，對高帶寬內存的需求正在顯著增長。

從更宏觀的角度看，美光的這一決策反映了當前美國半導體製造業面臨的現實挑戰。在《芯片法案》的推動下，雖然資金已經到位，但實際執行過程中仍會遇到勞動力、供應鏈和建設週期等多重困難。

對紐約州而言，項目的延期意味着當地期待的就業機會和產業鏈帶動效應將推遲實現。而對愛達荷州來說，資金的注入和項目的加速將鞏固其作為美國半導體制造重要基地的地位。

美光的案例揭示了美國半導體製造業復興之路的複雜性。它表明，在政策引導下，企業仍需根據實際情況靈活調整策略，以確保投資能夠產生最大效益。這種靈活性和務實態度，對於實現美國半導體供應鏈的長期目標至關重要。

儘管面臨挑戰，美光通過重新分配資源和調整項目優先級，展現了對市場需求的快速響應能力。這種戰略調整能力，在美國重建半導體製造業的進程中顯得尤為珍貴。

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