SK海力士正研發高帶寬存儲:16層DRAM和NAND芯片層層堆疊,為手機AI性能加buff

IT之家
2025/11/10

IT之家 11 月 10 日消息,據韓國「電子新聞」今日報道,高帶寬內存(HBM)的發展,正在推動存儲大廠 SK 海力士攻克新的性能瓶頸 —— 研發高帶寬存儲(HBS)。這項新技術有望讓未來的智能手機和平板電腦具備更強大的 AI 算力。

SK 海力士計劃採用一種名為垂直導線扇出(VFO)的封裝工藝,將最多 16 層 DRAM 與 NAND 芯片垂直堆疊,從而顯著提升數據處理速度。

IT之家從報道中獲悉,VFO 封裝是 HBS 能否成功的關鍵。SK 海力士早在 2023 年就首次展示這項技術,之後隨着生成式 AI 普及,HBS 正逐漸進入智能手機和平板電腦。

直線連接堆疊的 DRAM 和 NAND 芯片,VFO 取代了傳統的彎曲導線連接方式,既縮短了佈線距離,又減少信號損耗與延遲,並能支持更多 I/O 通道,使整體數據處理性能大幅提升。

未來 HBS 將與手機芯片組一起封裝,再安裝到設備主板上。外界普遍認為,驍龍 8 至尊版 Gen 6 Pro 具備同時兼容 LPDDR6 與 UFS 5.0 的能力,因此被視為 HBS 的潛在首發平台。

與 HBM 相比,HBS 無需採用硅通孔(TSV)工藝,意味着芯片製造不必穿孔,成本更低、良率更高。對於希望在設備中採用這種新型存儲方案的廠商而言,這無疑是一大利好。

據悉,蘋果正計劃在未來的設備中使用 HBM 和 TSV,讓 iPhone 能夠在本地運行更復雜的 AI 模型,因此蘋果開始研究 HBS 也在情理之中。

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