（信息來源：工商時報）較新的 2 納米制程可以繼續利用台積電現有的 EUV 光刻機進行量產，並提高良率。但隨着這家台灣半導體巨頭向 1.4 納米和 1 納米（也稱為 A14 和 A10）等 2 納米以下節點邁進，它將面臨製造方面的障礙。現在，通過購買 ASML 先進的高數值孔徑 EUV 光刻機可以輕鬆解決這個問題，但一份新報告指出，台積電將不再購買 ASML 光刻機，而是轉向光掩模薄膜。2納米晶圓...
網頁鏈接（信息來源：工商時報）較新的 2 納米制程可以繼續利用台積電現有的 EUV 光刻機進行量產，並提高良率。但隨着這家台灣半導體巨頭向 1.4 納米和 1 納米（也稱為 A14 和 A10）等 2 納米以下節點邁進，它將面臨製造方面的障礙。現在，通過購買 ASML 先進的高數值孔徑 EUV 光刻機可以輕鬆解決這個問題，但一份新報告指出，台積電將不再購買 ASML 光刻機，而是轉向光掩模薄膜。2納米晶圓...
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