「台積電N2節點引入曲線性掩模Curvy Masks」光刻機離不開光掩模光刻技術利用光線將芯片設計圖像從一種特殊的玻璃或反射鏡模板，即光掩模（photomask），縮小並投影到晶圓上。曝光圖像後進行顯影，然後是刻蝕工藝，最終固化圖案。光掩模本身是在稱為掩模工廠的特殊設施中準備的。在這些工廠內，特殊的掩模寫入機使用發射電子束的特殊工具，將芯片圖案寫入6英寸的掩模基板上。由於這些掩模將作為數百萬芯片的...
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