11月19日消息，三星電子公布了其即將推出的2nm芯片工藝的首批性能數據，這表明三星將更積極地推進下一代晶圓代工製造，以縮小與台積電的差距。三星宣佈，其首代2nm工藝採用全柵極環繞（GAA）晶體管技術，與第二代3nm工藝相比，性能提升5%，功耗效率提高8%，芯片面積縮小5%。這是三星首次發布2nm芯片的具體規格，此前僅有概念性描述。目前，台積電在全球晶圓代工市場佔據超70%的份額，三星約為7%。...
網頁鏈接11月19日消息，三星電子公布了其即將推出的2nm芯片工藝的首批性能數據，這表明三星將更積極地推進下一代晶圓代工製造，以縮小與台積電的差距。三星宣佈，其首代2nm工藝採用全柵極環繞（GAA）晶體管技術，與第二代3nm工藝相比，性能提升5%，功耗效率提高8%，芯片面積縮小5%。這是三星首次發布2nm芯片的具體規格，此前僅有概念性描述。目前，台積電在全球晶圓代工市場佔據超70%的份額，三星約為7%。...
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