光刻機大廠ASML於11月19日在中國臺灣舉行媒體會，ASML中國臺灣暨東南亞區客戶營銷主管徐寬成指出，隨着半導體制程技術持續不斷微縮，High NA EUV光刻機將有助於客戶節省時間及成本，目前客戶已有英特爾、IBM 及三星等，累積超過35萬片晶圓使用High NA EUV光刻機曝光。徐寬成說，當今社會正從芯片無所不在，轉變成人工智能（AI）無所不在。AI將驅動半導體先進及成熟製程需求成長，預期...
網頁鏈接光刻機大廠ASML於11月19日在中國臺灣舉行媒體會，ASML中國臺灣暨東南亞區客戶營銷主管徐寬成指出，隨着半導體制程技術持續不斷微縮，High NA EUV光刻機將有助於客戶節省時間及成本，目前客戶已有英特爾、IBM 及三星等，累積超過35萬片晶圓使用High NA EUV光刻機曝光。徐寬成說，當今社會正從芯片無所不在，轉變成人工智能（AI）無所不在。AI將驅動半導體先進及成熟製程需求成長，預期...
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